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ToDo Hydro Silicon Valley é uma solução à base de silicato de potássio formulada para fortalecer as paredes celulares das plantas, aumentando a rigidez e a resiliência geral da planta.Com uma composição de 0-0-0,9 e derivado de silicato de potássio, o Silicon Valley aumenta a integridade estrutural de caules e folhas, resultando em plantas mais robustas. Esta solução auxilia na absorção de nutrientes, protege as plantas contra danos físicos e melhora a absorção de CO2, otimizando a saúde e o crescimento geral da planta. Desenvolvido para uso em todos os sistemas hidropônicos — incluindo aeroponia, irrigação por gotejamento, NFT, DWC e RDWC — o Silicon Valley também é ideal para uso com substratos como esfagno e fibra de coco. Seja cultivando em solo ou em um meio sem solo, este poderoso aditivo garante um forte desenvolvimento das plantas e maior proteção contra estressores ambientais. O Silicon Valley pode ser facilmente incorporado ao seu programa de alimentação atual, tornando-se uma adição valiosa a qualquer sistema de cultivo que requeira suporte estrutural aprimorado. REFORÇO DA PAREDE CELULAR: Solução à base de silicato de potássio (0-0-0,9) com pH entre 9 e 11, desenvolvida para reforçar as paredes celulares das plantas e melhorar sua rigidez geral. AUMENTA A ABSORÇÃO DE NUTRIENTES: Facilita a melhor absorção de nutrientes, melhorando a saúde e o vigor geral da planta. SUPORTA A ABSORÇÃO DE CO2: Aumenta a absorção de CO2 do meio, ajudando as plantas a terem melhor desempenho durante a fotossíntese e o crescimento geral. APLICAÇÃO VERSÁTIL: Funciona em todos os sistemas hidropônicos e com esfagno, fibra de coco ou outros substratos para uso flexível em várias configurações. TRATAMENTO POTENCIAL DE PRAGAS: Pode ser usado para pulverização foliar e irrigação para auxiliar no controle de pragas, tornando-o um produto de dupla finalidade. OPÇÕES DE VÁRIOS TAMANHOS: Disponível em garrafas de 8 fl oz, 16 fl oz, 32 fl oz e 64 fl oz, adequado para produtores de qualquer escala.
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ToDo Hidro Silicon Valley Nutrient, Plant Growth Solution Formula 200 ml

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ToDo Hydro Silicon Valley é uma solução à base de silicato de potássio formulada para fortalecer as paredes celulares das plantas, aumentando a rigidez e a resiliência geral da planta.Com uma composição de 0-0-0,9 e derivado de silicato de potássio, o Silicon Valley aumenta a integridade estrutural de caules e folhas, resultando em plantas mais robustas. Esta solução auxilia na absorção de nutrientes, protege as plantas contra danos físicos e melhora a absorção de CO2, otimizando a saúde e o crescimento geral da planta. Desenvolvido para uso em todos os sistemas hidropônicos — incluindo aeroponia, irrigação por gotejamento, NFT, DWC e RDWC — o Silicon Valley também é ideal para uso com substratos como esfagno e fibra de coco. Seja cultivando em solo ou em um meio sem solo, este poderoso aditivo garante um forte desenvolvimento das plantas e maior proteção contra estressores ambientais. O Silicon Valley pode ser facilmente incorporado ao seu programa de alimentação atual, tornando-se uma adição valiosa a qualquer sistema de cultivo que requeira suporte estrutural aprimorado. REFORÇO DA PAREDE CELULAR: Solução à base de silicato de potássio (0-0-0,9) com pH entre 9 e 11, desenvolvida para reforçar as paredes celulares das plantas e melhorar sua rigidez geral. AUMENTA A ABSORÇÃO DE NUTRIENTES: Facilita a melhor absorção de nutrientes, melhorando a saúde e o vigor geral da planta. SUPORTA A ABSORÇÃO DE CO2: Aumenta a absorção de CO2 do meio, ajudando as plantas a terem melhor desempenho durante a fotossíntese e o crescimento geral. APLICAÇÃO VERSÁTIL: Funciona em todos os sistemas hidropônicos e com esfagno, fibra de coco ou outros substratos para uso flexível em várias configurações. TRATAMENTO POTENCIAL DE PRAGAS: Pode ser usado para pulverização foliar e irrigação para auxiliar no controle de pragas, tornando-o um produto de dupla finalidade. OPÇÕES DE VÁRIOS TAMANHOS: Disponível em garrafas de 8 fl oz, 16 fl oz, 32 fl oz e 64 fl oz, adequado para produtores de qualquer escala.
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